Mprobe 20 薄膜測量系統（單點測量）

簡(jian)要描述：Mprobe 20 薄膜測量(liang)系(xi)統（單(dan)點測量(liang)）是一款桌面式(shi)單(dan)點薄膜厚度測量(liang)系(xi)統，只(zhi)需點擊鼠標薄膜厚度和折(zhe)射率(lv)測量(liang)，測量(liang)厚度范圍1nm-1mm.

產品型號：
廠商(shang)性(xing)質：代理商
更新時間：2021-08-14
訪問量：1003

產品咨詢聯系我們

Product catalog

光學部件

查看全部

詳細介紹

品牌	其他品牌	產地類別	進口
應用領域	環保,電子,航天	靈敏度	0.1-0.5 pT/√HZ

Mprobe 20 薄膜測量系統 (單點測量)

MProbe 20是一款桌面式單點薄膜厚度測量系統，只需點擊鼠標薄膜厚度和折射率測量，測量厚度范圍1nm-1mm，MProbe 20可對多層膜層進行測量。不同的MProbe 20配置主要由光譜儀的波長范圍和分辨率來區分，這又決定了可以測量的材料的厚度范圍和類型。該測量技術基于光譜反射率，具有快速、可靠、無損等特點。在世界范圍內有成千上萬的應用。

Mprobe 20 薄膜測量系統 (單點測量)配置包括：

主單元(包括光譜儀、光源、光控制器、微處理器)
SH200A樣品臺，帶對焦鏡頭，可微調
光導纖維反射探頭
TFCompanion -RA軟件、USB適配器(授權密鑰)、USB記憶棒附帶軟件發行、用戶指南等資料
根據型號和黑色吸收體的不同，校準裝置(裸硅片和/或石英板和/或鋁鏡)
測試樣品200nm的氧化硅或PET薄膜，視型號而定
USB或LAN線(用于連接主機和PC)
24VDC電源適配器(110/220V)

核心(xin)指標:
精度:<0.01nm或0.01%(在200nm的氧化物上測量100次)
精度:<1nm或0.2%(依賴于filmstack)
穩定性:< 0.02nm或0.2%(每天測量20天)
光斑大小:< 1毫米
樣本尺寸:>= 10mm
參見下面小冊子中MProbe 20薄膜厚度測量系統可用配置的詳細規格

選型列表：

MProbe 20	波長范(fan)圍	厚度范(fan)圍(wei)
VIS	400nm -1100nm	10nm – 75 μm
UVVISSR	200nm -1100nm	1nm -75μm
VISHR	700nm-1700nm	1μm-400μm
NIR	900nm-1700nm	50nm – 85μm
UVVisF	200nm -800nm	1nm – 5μm
UVVISNIR	200nm-1700nm	1nm -75μm
NIRHR	200nm -1100nm	10μm-1800μm (glass)4μm-400μm (Si)