| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,電子 | 精度 | 0.01nm或0.01% |
膜厚測量儀（測量厚度1nm~1.8mm）MPROBE - MAKING THIN FILMS THICKNESS MEASUREMENT EASY
美國Semisonsoft公司MProbe系列薄膜(mo)測厚(hou)儀(yi)測量(liang)厚(hou)度可以(yi)低至1nm，厚(hou)至1.8mm，埃級分辨(bian)率(lv)，非(fei)接(jie)觸(chu)式(shi)無損快速測量(liang)。廣泛應用在各種(zhong)生產或(huo)(huo)研究中(zhong)，比如測量(liang)薄膜(mo)太陽能電池的(de)CIGS層，觸(chu)摸屏中(zhong)的(de)ITO層等。大部分透光或(huo)(huo)弱吸收(shou)的(de)薄膜(mo)均可以(yi)快速且穩定的被測量
測(ce)量原(yuan)理：當規定波長范圍的(de)光(guang)照射(she)到薄膜上時，從(cong)不同界面上反射(she)的(de)光(guang)相(xiang)位不同，從(cong)而引起干涉導致強度(du)相(xiang)長或相(xiang)消。而這種(zhong)強度(du)的(de)振(zhen)(zhen)蕩是(shi)與薄膜的(de)結構相(xiang)關的(de)。通過對這種(zhong)振(zhen)(zhen)蕩擬(ni)合和(he)傅里葉變換(huan)就可獲得(de)樣(yang)品厚度(du)和(he)相(xiang)關的(de)光(guang)學常數。
比如：
半(ban)導體（硅(gui)(gui)，單晶硅(gui)(gui)，多晶硅(gui)(gui)）
半導體化合物（AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS）
微電(dian)子機械（MEMS）
氧化物/氮化物
光刻膠
硬涂層（碳化硅(gui)，類金剛石(shi)炭(tan)）
聚合物(wu)涂層（聚對二甲(jia)苯，聚甲(jia)基丙烯(xi)酸甲(jia)酯，聚酰胺）
高分子聚合物
MProbe膜厚測量儀（測量厚度1nm~1.8mm）操作(zuo)簡單，只需一鍵操作(zuo)即(ji)可獲得樣品的厚度(du)、折射率(lv)（n, k）和表面粗糙度(du)等(deng)信息，膜(mo)厚測(ce)(ce)量(liang)設(she)備可支(zhi)持不同(tong)光(guang)譜(pu)范(fan)圍，光(guang)譜(pu)范(fan)圍可達200-1700nm，因此(ci)可測(ce)(ce)量(liang)厚度(du)范(fan)圍可從1nm到2mm。 設(she)備中無(wu)移動組件(jian)，所(suo)以(yi)測(ce)(ce)量(liang)結(jie)果幾乎是即(ji)時得到的；TFCompanion測(ce)(ce)量(liang)軟件(jian)使(shi)得測(ce)(ce)量(liang)過程非(fei)常簡單且透明，測(ce)(ce)量(liang)歷史(shi)、動態測(ce)(ce)量(liang)、模擬、顏色分(fen)析、直接在樣品圖像上顯示(shi)結(jie)果。
膜厚測量儀分類：
1、單(dan)點膜厚測量(liang)——MPROBE-20
MPROBE-20膜(mo)厚(hou)測量儀(yi)是一款臺式單點膜(mo)厚(hou)測量設備(bei)(bei)，設備(bei)(bei)操作簡單，一鍵獲(huo)得樣(yang)品的(de)厚(hou)度(du)和折射率，并可(ke)(ke)提(ti)供不(bu)同波(bo)(bo)段(duan)范(fan)圍（適用于不(bu)同厚(hou)度(du)薄(bo)膜(mo)）選擇。MPROBE-20具有以下幾種型號(hao)，客戶可(ke)(ke)根(gen)據自己所需的(de)波(bo)(bo)長范(fan)圍和薄(bo)膜(mo)厚(hou)度(du)進(jin)行選擇。
可供選擇型號：
| 型號 | 波長范圍 | 核心配置 | 厚度范圍 |
| VIS | 200nm -1100nm | F3 Ariel Spectrometer, 2048/4096 pix cmos, 16 bit ADC, 5W Tungsten-Halogen lamp | 10nm – 75 μm |
| UVVISSR | 700nm -1100nm | F4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp | 1nm -75μm |
| VIS-HR | 900nm-1700nm | F4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC, 5W TH lamp | 1μm-400μm |
| NIR | 200nm-800nm | F4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp | 50nm – 85μm |
| UVVisF | 200nm -1700nm | F4 spectrometer, Si detector 2048 pixels ccd, 16 bit ADC, 10W Xe flash lamp | 1nm – 5μm |
| UVVISNIR | 1500nm-1550nm | F4 Spectrometer, 2048pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp. F4spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp | 1nm -75μm |
| NIRHR | 200nm -1100nm | F4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp or SLDoption | 10μm-1800μm (glass)4μm-400μm (Si) |
2、單點手持膜厚測量——MPROBE HC
MPROBE HC膜厚測量儀是一款基(ji)于MPROBE-20平臺開(kai)發專用于測量曲面和大型零件上的涂層(ceng)，用手動(dong)探針代替樣品臺。
主要參數：
| 精度 | 0.01nm或(huo)0.01% |
| 準確度 | 0.2%或1nm |
| 穩定性 | 0.02nm或0.03% |
| 聚焦點尺寸 | 0.2mm或0.4mm |
| 樣品尺寸 | >25mm |
| 厚度范圍 | 0.05-70um |
3、聚焦光斑膜厚測量(liang)儀——MPROBE 40
MPROBE 40是一款聚焦(jiao)的小光斑膜(mo)(mo)厚測(ce)量系統，該(gai)產品將(jiang)顯(xian)微(wei)系統和膜(mo)(mo)厚測(ce)量設(she)備結合起來，用于對(dui)膜(mo)(mo)厚的微(wei)區測(ce)量，光斑可(ke)達2μm。該(gai)設(she)備集成相(xiang)機和軟件，可(ke)精確(que)顯(xian)示待測(ce)位置，并同時顯(xian)示測(ce)量結果。
該設(she)備(bei)有(you)不同波長范圍可(ke)選(xuan)，可(ke)供選(xuan)擇的(de)產品型(xing)號如(ru)下：
4、原(yuan)位測量膜厚測量儀——MPROBE 50 INSITU
MPROBE 50 INSITU是一款支持原(yuan)位測(ce)(ce)量膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量儀，該設(she)備采用門(men)控數據(ju)采集(ji)方式因此可(ke)以在高環境光(guang)的(de)條(tiao)件下工作。此外該型號膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量儀支持定(ding)制以滿足(zu)不同形狀的(de)真空腔(qiang)。根據(ju)可(ke)用的(de)光(guang)學(xue)窗口(kou)(kou)，支持斜入射和垂直入射。光(guang)線可(ke)以聚焦樣品表面(mian)或(huo)準直,探測(ce)(ce)探頭可(ke)以放置在沉積室(shi)光(guang)學(xue)端口(kou)(kou)內(nei)部(bu)或(huo)外部(bu)，由于(yu)該膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量儀沒有(you)移(yi)動部(bu)件，通常測(ce)(ce)量時(shi)間(jian)約10ms。
此外該型號還有多種波段范圍可(ke)選(xuan)，可(ke)供選(xuan)擇型號如(ru)下
5、支持(chi)Mapping的聚焦膜(mo)厚測量儀(yi)——MPROBE 60
MPROBE 60是一(yi)款聚焦并可(ke)(ke)做mapping的膜厚測(ce)量設備，重復精(jing)度可(ke)(ke)達(da)0.01nm，精(jing)度可(ke)(ke)達(da)1nm，mapping面積可(ke)(ke)達(da)300*300mm。并支持多(duo)種波長(chang)范圍可(ke)(ke)選。
可選波長型號：
6、在線膜(mo)厚測量儀(yi)——MProbe 70
MProbe 70是一款高(gao)性能膜厚測量儀(yi)，主(zhu)要(yao)設計用于24/7生產線上(shang)的連續測量。該(gai)設備(bei)主(zhu)要(yao)有兩(liang)種配置一個(ge)是在產線上(shang)配備(bei)多個(ge)固定的探頭，第二(er)種是將(jiang)探頭裝(zhuang)在掃描儀(yi)上(shang)掃描。
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