| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫療衛生,生物產業,電子,航天,綜合 |
UV納米壓印機
納米壓印技術是上世紀90年代Stephen Y Chou,針對傳統(tong)光(guang)刻(ke)受波長限(xian)制提出的(de)類似于(yu)模(mo)板刻(ke)印的(de)一(yi)(yi)種技術。它的(de)原理(li)是：將具(ju)有納(na)米結構(gou)的(de)模(mo)板通過一(yi)(yi)定壓(ya)力，壓(ya)入加熱的(de)熔融(rong)的(de)高分(fen)子薄膜內，待(dai)高分(fen)子材(cai)料冷卻(que)，納(na)米結構(gou)定型，移去(qu)模(mo)板，然后再通過等(deng)離子體刻(ke)蝕(shi)等(deng)傳統(tong)的(de)微(wei)電子加工(gong)手段把結構(gou)轉移到基底(di)上。 過程如下圖所示：
由于(yu)熱壓(ya)印需要采用(yong)較高壓(ya)力(li)，容易(yi)損壞模(mo)板(ban)，不(bu)利于(yu)模(mo)板(ban)多次使用(yong)，并(bing)且(qie)由于(yu)材料(liao)和襯(chen)底(di)熱系數并(bing)不(bu)相同，容易(yi)造成納(na)米結構缺陷，于(yu)是G.G.Willson 提出了(le)紫外固(gu)化壓印。該設備主要原(yuan)理(li)是：使用(yong)低粘(zhan)度，流動性好的(de)聚合物滴到基板上，利用(yong)液體*的(de)毛細現象，使光(guang)刻膠充滿模(mo)板，然(ran)后(hou)(hou)通(tong)過(guo)紫外光(guang)照(zhao)射使其(qi)固(gu)化，然(ran)后(hou)(hou)脫(tuo)模(mo)，刻蝕(shi)。過(guo)程如下圖所示
到目前為止壓印(yin)(yin)技術(shu)已經(jing)發展出來多(duo)種類型，典型的包括熱塑(su)壓印(yin)(yin)技術(shu)、紫外固化壓印(yin)(yin)、微(wei)接觸納米(mi)壓印(yin)(yin)、激光輔(fu)助納米(mi)壓印(yin)(yin)和滾軸式納米(mi)壓印(yin)(yin)技術(shu)等。
為了(le)滿足市場日益增長(chang)對(dui)納(na)米壓印的需求，上(shang)海(hai)昊量推(tui)出(chu)了(le)UV納(na)米壓印(yin)機。
該設備是基(ji)于(yu)紫外固(gu)化的納米壓印機，可提(ti)供(gong)2英(ying)寸；4英寸(cun)和6英寸(cun)不等的壓印尺寸(cun)。分(fen)辨率可做到(dao)由于10nm，并且(qie)擁有99%產率。
該(gai)設備的*之處是(shi)已獲得的自動脫(tuo)(tuo)模技術。該設(she)備(bei)可(ke)以通過(guo)軟件調(diao)節納米(mi)壓(ya)印腔(qiang)體內外的壓(ya)力，是(shi)模板從襯(chen)底(di)上自動脫(tuo)(tuo)模。并且可(ke)避免分(fen)離過(guo)程中造成基底(di)和模板的損壞。
該產品擁有以下優勢：
l 分辨率優(you)于10μm，產率優于(yu)99%
l 同時適用于軟模和剛性模板
l 自動脫模(mo)，防止模(mo)板和基板損壞
l 可壓印不同尺寸的模板(ban)和基片(pian)，方便(bian)靈(ling)活
l 可(ke)編程(cheng)的PLC觸屏界面
l 對(dui)準選(xuan)項
應用實(shi)例(li)：
產品參數：
AUV-200 | AUV-400 | AUV-600 | |
Substrate size | 2 inch standard | 4 inch standard | 6 inch standard |
Imprint area | Same as wafer size | ||
Imprint pressure | 1 psi standard | ||
UV exposure time | 2-3 min at 95% intensity level | ||
上海市徐匯區虹梅路2007號6號樓3樓
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