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超高速熒光成像系統(面掃描,低損傷)

簡(jian)要(yao)描述:MA™是一(yi)種超高(gao)速且一(yi)體化的(de)(de)可定制高(gao)光(guang)(guang)譜顯微(wei)鏡(jing)平臺,具有高(gao)空間分辨率(lv)和光(guang)(guang)譜分辨率(lv)。*集成的(de)(de)系統可快速映射VIS-NIR-SWIR光(guang)(guang)譜范圍內(nei)的(de)(de)漫反射,透射率(lv),光(guang)(guang)致發光(guang)(guang),電致發光(guang)(guang)和熒光(guang)(guang)。基于高(gao)通量(liang)全局成像濾波器,IMA™比基于掃描類(lei)型光(guang)(guang)譜儀的(de)(de)高(gao)光(guang)(guang)譜系統更快,更高(gao)效。超高(gao)速熒光(guang)(guang)成像系統(面掃描,低損傷)

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  • 更新(xin)時間:2021-06-02
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超(chao)高速熒光成(cheng)像(xiang)系統(面掃描,低損傷)

技術服務人員(yuan):李(li)工(William)

IMA™是一種超高速且一體化的可定制高光譜顯微鏡平臺,具有高空間分辨率和光譜分辨率。*集成的系統可快速映射VIS-NIR-SWIR光譜范圍內的漫反射,透射率,光致發光,電致發光和熒光。基于高通量全局成像濾波器,IMA™比基于掃描類型光譜儀的高光譜系統更快,更高效

IMA™可實現(xian)復雜的(de)材料分(fen)析,如太(tai)陽能電池和鈣鈦礦的(de)表征(zheng),成(cheng)分(fen),應力(li),材料缺陷(xian)等的(de)映射,光譜信息的(de)監測,單個(ge)發(fa)射器(qi)強度的(de)變化,波長漂移(yi)或光譜帶寬變化

 

 Photon Etc.的(de)(de)IMA™可在400至1700 nm范圍內(nei)成像,帶寬(kuan)為3 nm,能夠測量(liang)光(guang)電(dian)(dian)特性,如電(dian)(dian)壓開路和外量(liang)子效率,并(bing)可對材(cai)料中的(de)(de)缺陷進行準確的(de)(de)檢測和表(biao)征,這非常(chang)適于半(ban)導體器件(GaAs,SiC,CdTe,CIS,CIGS等(deng))的(de)(de)質(zhi)量(liang)控制。

 

超高速熒光成像系統(面掃描,低損傷)IMA™覆蓋(gai)的光(guang)譜范圍(wei)非常(chang)適用于在第二個(ge)生(sheng)物(wu)(wu)窗口中激發(fa)的熒光(guang)的空(kong)間和光(guang)譜識(shi)別和測(ce)量。通過可能(neng)集成(cheng)暗視野照明(ming)模(mo)塊,它(ta)成(cheng)為檢測(ce)嵌入在細(xi)胞中的納米材料的成(cheng)分和位置(zhi)或活體,體外和未染(ran)色生(sheng)物(wu)(wu)樣品的復雜分析的特殊工(gong)具;有機和無(wu)機物(wu)(wu)質的特性(xing)。例(li)如,單(dan)壁(bi)納米管(SWNT)發(fa)射帶(dai)窄(~20nm),每個(ge)帶(dai)對(dui)應于*的物(wu)(wu)種(手性(xing))。使(shi)用IMA™,可以在表面或活細(xi)胞中以單(dan)一(yi)SWNT空(kong)間分辨率分離這(zhe)些物(wu)(wu)種。生(sheng)物(wu)(wu)學家(jia)會(hui)喜歡使(shi)用它(ta)做無(wu)損分析,因為其較弱的組織吸收,更高(gao)的穿透深度和有限的自發(fa)熒光(guang)等特性(xing)。

應用案例(li):

1、      多路復用(yong)-碳納(na)米(mi)管的空間位置和光譜(pu)的識別

在玻璃表面上(shang)SCD懸(xuan)浮HiPco碳納米管的(de)偽彩熒光成像(xiang)。每一種顏(yan)色(17種(zhong))對應(ying)一(yi)個(ge)光譜(pu),如下圖所(suo)示(shi):

 

 

2、      不均勻性和缺陷成像-鈣鈦(tai)礦(kuang)器件的Absolute luminescence成像

頂部圖像(xiang)(xiang)表示使(shi)用C60作為(wei)ETL的(de)(de)(de)鈣(gai)鈦礦電(dian)(dian)池的(de)(de)(de)源(yuan)自EL的(de)(de)(de)準費米能級分裂(lie)的(de)(de)(de)Absolute 成像(xiang)(xiang)。下圖是電(dian)(dian)流轉(zhuan)換效率的(de)(de)(de)fT的(de)(de)(de)成像(xiang)(xiang)。

3、降解和樣品形成-鈣(gai)鈦礦晶體(ti)的光(guang)致發光(guang)成(cheng)像

黑白圖:770nm波(bo)長(chang)激發(fa)的(de)PL成像

彩色圖:PL中心波長(chang)的偽(wei)彩圖。

底部圖(tu):從高光譜(pu)數據中(zhong)提(ti)取的兩個PL光譜(pu)-見圖(tu)片中(zhong)相(xiang)應位置

4、細胞標記-金納米粒子暗場成像

A)用金納米(mi)顆(ke)粒(60nm大(da)小)標記的人乳腺癌細胞(bao)的暗(an)視野圖像,

B)在550nm處的(de)(de)單色(se)(se)圖像。 在PCA后標記(ji)為綠色(se)(se)的(de)(de)GNP

C)乳腺細胞的放大

D)在(zai)(zai)(zai)不(bu)同區域(yu)GNPs的光譜(pu),在(zai)(zai)(zai)550nm處的峰(feng)確認(ren)為(wei)單個60nmNPs的峰(feng),沒有強(qiang)的紅移(yi)峰(feng)證明沒有聚合(he)的NPs,高光譜(pu)相機沒有在(zai)(zai)(zai)細胞之間的區域(yu)中檢測到任何(he)GNPs。

產品(pin)特點

l   快速(su)全視野成像

l   高空間分辨率和光譜分辨率

l   可定制

l   無損分析

l   光譜分(fen)為(wei)可從(cong)400-1700nm

 

主要應用

l  進行復(fu)雜的材料分析,如太陽(yang)能電池表征和半導體質量控制(zhi)(例如:鈣(gai)鈦礦,GaAs,SiC,CIS,CIGS等)。

l  研究復(fu)雜環境中的(de)(de)IR標記,包括活細胞(bao)和組織。 例如(ru),在第二生物窗口中發射的(de)(de)IR熒光團的(de)(de)光譜異質(zhi)性。

l  檢索暗(an)場圖像并獲得透明和未染色樣(yang)品(如聚合物,晶(jing)體或活細胞)的對比(bi)度。

主要參(can)數:

AL RANGE

VIS - SWIR Model
  400 - 1620 nm

VIS
  400-1000 nm

SWIR
  900-1620 nm

SPECTRAL RESOLUTION

< 2.5 nm

< 4 nm

CAMERA

CCD, EMCCD, sCMOS

ZephIR 1.7

EXCITATION WAVELENGTHS
  (up to 3 lasers)

405, 447, 532, 561, 660, 730, 785 or 808 nm

MICROSCOPE

Upright or Inverted; Scientific Grade

SPATIAL RESOLUTION

Sub-micron
  (limited by the microscope objective N.A.)

MAXIMUM SAMPLE SIZE

10 cm x 10 cm

X, Y TRAVEL RANGE

76 mm x 52 mm

Z-STAGE RESOLUTION

100 nm

ILLUMINATION
  Illumination option

Diascopic, Episcopic, LED, HG,
  Epifluorescence module, Darkfield module

WAVELENGTH ABSOLUTE ACCURACY

0.25 nm

VIDEO MODE

Megapixel camera for sample visualization

DATA PROCESSING

Spatial filtering, statistical tools, spectrum extraction, data   normalization, spectral calibration, overlay, central position map, etc.

HYPERSPECTRAL DATA FORMAT

HDF5, FITS

SINGLE IMAGE DATA FORMAT

HDF5, CSV, JPG, PNG, TIFF

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