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桌面型納米壓印機
超緊湊納米壓印機！
所屬類別：實驗(yan)設備 » 無掩模光刻系統
技術服務人員：李工(gong)(William)
超緊(jin)湊(cou)納米壓(ya)印機
光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)術(shu)實際(ji)上是(shi)一種精密(mi)(mi)表(biao)面加工技(ji)術(shu)，它借助(zhu)于一定波長的(de)(de)激光(guang)(guang)光(guang)(guang)源以(yi)(yi)及(ji)選擇性的(de)(de)化(hua)學(xue)腐蝕和刻(ke)蝕技(ji)術(shu)把設計的(de)(de)微(wei)納(na)圖(tu)案(an)轉移到(dao)硅基板(ban)(ban)上。但(dan)是(shi)隨著(zhu)集成(cheng)(cheng)電路功能和密(mi)(mi)度的(de)(de)提(ti)升(sheng)傳統的(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)技(ji)術(shu)已(yi)經難以(yi)(yi)滿(man)足(zu)當前對(dui)線寬越來(lai)越小(xiao)的(de)(de)需求。但(dan)是(shi)打破衍射極限(xian)的(de)(de)大型(xing)光(guang)(guang)刻(ke)設備又(you)極其(qi)昂(ang)貴(gui)。為了擺脫(tuo)光(guang)(guang)學(xue)衍射極限(xian)和克服高成(cheng)(cheng)本的(de)(de)限(xian)制，一種操作簡單，成(cheng)(cheng)本低廉(lian)的(de)(de)納(na)米壓(ya)印(yin)技(ji)術(shu)產生(sheng)了。納(na)米壓(ya)印(yin)的(de)(de)技(ji)術(shu)核心是(shi)充(chong)分(fen)利用機械能將(jiang)剛(gang)性模(mo)板(ban)(ban)上的(de)(de)圖(tu)案(an)轉到(dao)抗蝕劑上，之后再借助(zhu)溶脫(tuo)、剝離、刻(ke)蝕等將(jiang)圖(tu)案(an)轉移到(dao)基板(ban)(ban)上。到(dao)目前為止壓(ya)印(yin)技(ji)術(shu)已(yi)經發展出來(lai)多(duo)種類型(xing)，典型(xing)的(de)(de)包括熱塑壓(ya)印(yin)技(ji)術(shu)、紫外固化(hua)壓(ya)印(yin)、微(wei)接觸(chu)納(na)米壓(ya)印(yin)、激光(guang)(guang)輔助(zhu)納(na)米壓(ya)印(yin)和滾(gun)軸式(shi)納(na)米壓(ya)印(yin)技(ji)術(shu)等。
上(shang)海(hai)昊量(liang)光電設(she)(she)備(bei)有(you)限公司推出(chu)的納米壓印機AU-CUI為熱壓印和紫外固化(hua)壓印設(she)(she)備(bei)。
AU-CNI納米(mi)壓(ya)印(yin)機是一(yi)款(kuan)桌面大(da)小的(de)(de)納米(mi)壓(ya)印(yin)和熱(re)壓(ya)成型的(de)(de)機器。它(ta)可(ke)以(yi)用于微(wei)米(mi)或納米(mi)結構的(de)(de)壓(ya)印(yin)成型。AU-CNI不但(dan)可(ke)以(yi)進行熱(re)壓(ya)印(yin)還可(ke)以(yi)進行UV壓(ya)印(yin)。
對于熱壓印首先設備通過(guo)施加壓力使模板與基板緊(jin)密(mi)接觸，加壓范圍最大可達到11bar，通常依據(ju)溫度(du)控制(zhi)壓(ya)印過程。溫度(du)最高(gao)可(ke)達到200℃，由于采用原位(wei)實時測量溫度，因此(ci)控溫精度可達到1℃。
UV曝(pu)光采用(yong)4個(ge)365nm的(de)LED光源(yuan)，組合光的(de)功率可(ke)(ke)達到11.6W，LED的(de)溫度被實時檢測，擁有(you)過熱保(bao)護(hu)功能(neng)，即使出現(xian)過熱的(de)現(xian)象(xiang)也可(ke)(ke)以確保(bao)曝(pu)光劑(ji)量(liang)正確。
此外(wai)設備擁有簡潔(jie)的操作(zuo)軟(ruan)件。通(tong)過(guo)軟(ruan)件可以控制壓印的溫度、壓力、曝(pu)光時間等參數。并且可以編(bian)輯并存儲在該軟(ruan)件中。
AU-CUI其操(cao)作簡單，功(gong)能強大，易于(yu)實現新的(de)實驗(yan)和非標準的(de)加工。是納米壓印的(de)*工具。
- 壓印(yin)圖(tu)案例：
u 桌面型納米壓印機產品特(te)點(dian)：
l 操(cao)作(zuo)簡單
l 即插即用
l 結構緊(jin)湊(cou)
l 多(duo)種用(yong)途
u 主要應用
l 微米/納米結構(gou)的壓印
l 高(gao)縱橫比結構(gou)的壓印
l 聚合物的熱(re)壓(ya)印
l 壓印模(mo)板制作
u 產品(pin)參數
Pressure | Imprint pressure from 0.3 - 11 bar overpressure |
Temperature | Up to 200ºC with control of +/- 1ºC |
UV exposure | UV led light with 365 nm wavelength and optical power of 11600 mW |
Vacuum | The imprint chamber can be evacuated down to pressure below 1 mbar |
Size of imprint chamber | Diameter of 100 mm and height of 20 mm (can be expanded up to 45 mm) |
Automated replication process | 1）Stamp and substrate are loaded manually 2）Replication process is fully automated and controlled through CNI software |
Software | Full process control and flexibility. Everything besides loading and unloading is handled by the software |
CNI customization | CNI can be modified to meet individual requirements |
On-line video instructions | On-line video installation and operation guides |
Optional | 1）Pressure booster to boost a lab compressed air supply from 3-5 bar to 6-10 bar 2）Training and/or installation by NILT personnel |
上海市徐匯區虹梅路2007號6號樓3樓
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