DMD無掩膜光刻機無(wu)需制造(zao)掩膜(mo)，采用(yong)DMD數字掩膜(mo),可(ke)(ke)在抗(kang)蝕劑內曝(pu)光所希望(wang)的任意圖案。無(wu)掩膜(mo)光刻(ke)機可(ke)(ke)以讀取任何(he)CAD數據，除此之外DMD式無(wu)掩膜(mo)光刻(ke)機還可(ke)(ke)以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無(wu)掩膜(mo)光刻(ke)機使(shi)(shi)用(yong)365nmLED光源，降低價格的同時(shi)實現了穩定的曝(pu)光。采用(yong)10倍物(wu)鏡，一次(ci)曝(pu)光面積可(ke)(ke)達1mm´0.6mm，曝(pu)光時(shi)間僅需1s。結合電動移動平(ping)臺，可(ke)(ke)實現曝(pu)光拼接，分辨(bian)率(lv)可(ke)(ke)達到3mm。可(ke)(ke)通過公司編寫(xie)的軟件完成詳細設定，使(shi)(shi)操作(zuo)簡潔方便(bian)。

DMD無掩膜光刻機與傳統(tong)的光(guang)刻(ke)機(ji)不同(tong)，AU-PALET光(guang)刻(ke)機(ji)采用(yong)DMD數字掩膜光(guang)刻(ke)技術(shu)，無(wu)需(xu)制造掩膜。大大降低了(le)時(shi)間和(he)成本。無(wu)掩膜光(guang)刻(ke)機(ji)可以讀(du)取(qu)(qu)任何(he)創建的CAD文件(jian)，直接進(jin)行光(guang)刻(ke)。除(chu)了(le)CAD文件(jian)，還可以讀(du)取(qu)(qu)豐富的其它格式的數據，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

AU-PALET DMD式無掩(yan)(yan)膜光(guang)(guang)刻機采(cai)用短波(bo)段的(de)(de)LED燈為光(guang)(guang)源，相對(dui)于(yu)其它的(de)(de)光(guang)(guang)源，擁有更高(gao)的(de)(de)穩定性和更長的(de)(de)壽命，降低價格的(de)(de)同時實現(xian)了(le)穩定的(de)(de)曝(pu)(pu)光(guang)(guang)。AU-PALET 無掩(yan)(yan)膜光(guang)(guang)刻機為面(mian)曝(pu)(pu)光(guang)(guang)，采(cai)用10倍的(de)(de)物鏡，一次曝(pu)(pu)光(guang)(guang)面(mian)積可達到1mm´0.6mm，結合電動平移臺可實現(xian)曝(pu)(pu)光(guang)(guang)拼接，可達到更大的(de)(de)曝(pu)(pu)光(guang)(guang)面(mian)積。可通過公司編(bian)寫的(de)(de)軟件完成簡單(dan)操作(zuo)和詳(xiang)細設定，操作(zuo)簡潔方便。

設備有(you)限公(gong)司推出(chu)的DMD式無掩(yan)膜光(guang)刻機有(you)兩種。

①  AU-PALET是一款快速光(guang)(guang)(guang)刻的(de)無(wu)掩膜光(guang)(guang)(guang)刻機。本裝置采(cai)用375nm的(de)LED光(guang)(guang)(guang)源，實現了穩定的(de)曝光(guang)(guang)(guang)，并(bing)且擁有更高的(de)穩定性和更長的(de)壽命。采(cai)用10´的(de)物鏡曝光(guang)(guang)(guang)面積達到1mm´0.6mm，光(guang)(guang)(guang)刻分辨率達到5mm，并(bing)在10s 內完成曝光(guang)(guang)(guang)。

②  

②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升級版本，在光(guang)(guang)(guang)源上(shang)采(cai)用波長更短的365nm的LED燈作(zuo)為光(guang)(guang)(guang)源，采(cai)用10´的物鏡曝(pu)光(guang)(guang)(guang)面(mian)積(ji)達到1mm´0.6mm，光(guang)(guang)(guang)刻分辨率達到3mm，并(bing)在1s 內完成曝(pu)光(guang)(guang)(guang)。

u  主(zhu)要(yao)特點

• 高速度（1s）

• 廣范(fan)圍（1´0.6mm）

• 365nm LED光源

• 高分辨率(lv) （3mm）

• 成本低

u  主要應用

磁(ci)性薄膜(mo)等的任意(yi)形狀的圖(tu)案的形成

傳(chuan)感器，半(ban)導體器件的制作

MEMS器件的(de)試制、

光電(dian)子，LED的試制

微流體器件的試制

掩膜版制作

細胞分(fen)離通道等的(de)制作

光波導路的制作

主要參數